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用于制備均質玻璃、均質微晶玻璃和摻雜玻璃。由于重金屬氧化物與玻璃形成氧化物密度的差異，融化過程中會引起熔體的分層；另外，重金屬有較強的滲透性，對一般坩堝侵蝕性大，使鉑坩堝中毒。因此，在熔制的過程中需采用攪拌措施并利用特種坩堝。均質微晶玻璃的制備需要采用特殊的熱處理方法，以使晶體定向生長。二次熔融法是先將玻璃原料熔制成玻璃，，然后將半導體粉末或金屬微粒和玻璃粉末混合均勻，在真空或保護氣氛中進行二次熔融，從而制得摻雜玻璃。一般制備均質非線性光學玻璃均采用熔制法。用熔制法制備摻雜半體玻璃時，半導體化合物易分解而揮發(fā)，且較難控制微晶濃度、尺寸大小及分布均勻性。用此法制備摻雜金屬玻璃則必須采用低熔點玻璃及基礎玻璃成分，如摻Au要求氧化氣氛并摻SnO₂,摻Ag要求中性氣氛并摻微量Sb₂O₃、摻Cu要求還原氣氛。

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